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索尼投资800亿日元 提高积层型CMOS传感器产能

270人阅读 2012-6-26 10:39

2012年6月22日,索尼宣布为提升数字成像业务营收战略的一部分,将向长崎CMOS图像传感器工厂投资800亿日元(约合9.97亿美元)以提高新型积层型CMOS传感器的生产能力。 

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长崎CMOS图像传感器工厂

 
  2012年年初,索尼公布了最新研发的新型积层型CMOS传感器。作为背面照射型CMOS图象传感器的新技术,积层型CMOS传感器采用形成有信号处理电路的芯片代替原来的背面照射型CMOS图象传感器支持基板,在其上重叠形成有背面照射型像素的像素部分。
 

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新型积层型CMOS传感器发布时的资料

 
  新型积层型CMOS传感器实现了信号处理高速化和低耗电量化的优势。索尼除了将该传感器运用于自家生产的小型数码相机之外,还将提供给智能手机和平板电脑厂商。
 

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生产车间

 
  索尼计划在2012年度上期至2013年度上期,向长崎CMOS图像传感器工厂投资800亿日元用于添加生产设备和提高积层型CMOS传感器的生产能力。投资计划将于2013年9月完成,届时该工厂的总产量将会达到每月6万枚。
 

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原作者: 麦田收割者
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